AI 확산으로 HBM과 고성능 메모리 수요가 폭발하면서 반도체 제조 공정의 민감성은 극단적으로 높아졌다. 10나노 이하 초미세 공정에서는 대기 중 수분 몇 ppm과의 접촉만으로도 나노 단위 자연 산화막이 형성돼 소자 전기특성이 변질된다. 이처럼 습도 1%가 수천억원대 손실을 좌우하는 시대에는 공정 설계 못지않게 환경 제어의 완결성이 경쟁력의 핵심이다. 내부의 작은 변수 하나가 전체 공급망의 성패를 가른다.

저스템은 지난 10년간 FOUP 내부를 고순도 질소로 퍼지해 습도를 1% 이하로 유지하는 N2 퍼지 기술을 상용화하며 글로벌 표준으로 자리잡았다. 기류를 정교하게 설계해 습도 유입을 차단하는 2세대 JFS 솔루션과 온습도 통합 제어를 목표로 한 JDS 개발로 환경 제어를 장비 차원을 넘어 공정 차원으로 확장하고 있다. SK하이닉스와 마이크론에 역대 최대 규모로 공급하고 삼성전자에 JFS를 단기간 대량 제공한 실적은 기술 신뢰도를 뒷받침한다. 기술은 결국 수율과 품질로 연결되고 이것이 매출과 이익으로 전이된다.

재무 성과도 이를 뒷받침한다. 저스템은 2025년 연결기준 매출 483억원을 기록해 전년대비 24.7% 성장했고 영업이익은 46억원으로 200.6% 증가하며 당기순이익 36억원을 달성했다. HBM과 서버 D램, 첨단 파운드리 전반에서 수율 안정화 수요가 이어지는 한 이러한 성장 모멘텀은 지속될 가능성이 크다.

그렇다면 습도 제어는 단순 보조 장비의 영역을 넘어 산업 전략의 전장이 될 수 있을까. 그 답을 시장이 이미 보여주고 있다. 제조 현장에서 습도 1%를 관리하는 기업이 장기적 경쟁 우위를 확보할 가능성이 크고 이는 반도체 생태계의 지속 가능한 성장으로 이어질 것이다.